日企將為Rapidus量產(chǎn)尖端光掩模面向2nm制程
發(fā)布時間:2024-03-27 14:15
編輯:王鑫
來源:互聯(lián)網(wǎng)
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日企將為Rapidus量產(chǎn)尖端光掩模面向2nm制程,3月27日訊,日本公司DNP近日宣布,計劃為Rapidus研發(fā)并量產(chǎn)用于2nm制程芯片的最尖端光掩模產(chǎn)品,預(yù)計2027年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。此外,日本凸版公司也將開發(fā)最尖端的光掩模。
備注:數(shù)據(jù)僅供參考,不作為投資依據(jù)。