國產集成電路設備重大突破 中微半導體5納米刻蝕機通過臺積電驗證

中證網訊（記者楊潔）根據解放日報12月18日消息，近期中微半導體自主研制的5納米等離子體刻蝕機經臺積電驗證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5納米制程生產線。5納米相當于頭發(fā)絲直徑的二萬分之一，是集成電路制程工藝最小線寬。臺積電宣布2019年將進行5納米制程試產、預計2020年量產。

刻蝕機是芯片制造的關鍵設備之一，曾一度是發(fā)達國家的出口管制產品。中微半導體聯合創(chuàng)始人倪圖強表示，中微與泛林、應用材料、東京電子、日立4家美日企業(yè)，組成了國際第一梯隊，為7納米芯片生產線供應刻蝕機，如今通過臺積電驗證的5納米刻蝕機，預計能獲得比7納米更大的市場份額。

中微半導體是2004年由尹志堯博士與杜志游博士、倪圖強博士、麥仕義博士等40多位半導體設備專家創(chuàng)辦，主要深耕集成刻蝕機領域，研制出中國大陸第一臺電介質刻蝕機。

目前，中微半導體的介質刻蝕設備、硅通孔刻蝕設備、MOCVD設備等均已成功進入國內外重要客戶供應體系。截至2017年底，已有620多個中微半導體生產的刻蝕反應臺運行在海內外39條先進生產線上。

根據國際半導體產業(yè)協(xié)會數據，2018年第三季度中國大陸半導體設備銷售額首次超越韓國，預計明年將成為全球最大半導體設備市場，包括中微半導體、北方華創(chuàng)在內的國產設備廠商有望提高設備滲透率。

備注：數據僅供參考，不作為投資依據。