成立時間:
注冊資本:
經(jīng)營范圍: 磁控濺射、 純度、 北京、 高純、 釩靶、
釩(V)靶材 Vanadium Target純度:99.5%,99.7%,99.9%形狀:平面靶,柱狀靶,電弧靶,異型靶 我們生產(chǎn)的不同純度釩靶化學(xué)成分規(guī)格值
純度 | 99.7 | 99.9 | 99.95 | 99.99 |
Fe | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.02 | ≤0.01 |
Al | ≤0.2 | ≤0.05 | ≤0.03 | ≤0.01 |
Si | ≤0.15 | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.01 |
C | ≤0.03 | ≤0.02 | ≤0.01 | ≤0.01 |
N | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 |
O | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.03 |
金屬雜質(zhì)總和 | ≤0.3 | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.01 |
晶體結(jié)構(gòu) | 體心立方晶體 |
電阻率 | 19.6 ?Ohmcm |
溫度系數(shù) | 0.00390 K?? |
密度 | 6.100 g/cm? |
沸點 | 3380.00°C |
熔點 | 1890.00°C |
蒸發(fā)潛熱 | 8975J g?? |
熔化潛熱 | 345.00J g?? |
導(dǎo)熱系數(shù) | 30.70 Wm??°C?? |
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