TCO用AZO靶材 AZO靶材99:1 高端旋轉(zhuǎn)AZO靶材（UVTM）

高純度濺射靶材主要應(yīng)用于電子元器件制造。根據(jù)中國(guó)濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)數(shù)據(jù)顯示：靶材在半導(dǎo)體材料中占比約為2.5-3%。上靶材：濺射薄膜制備的源頭材料，又稱(chēng)濺射靶材，相沉積工藝，是制備晶圓、面板、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。真空狀態(tài)下，用加速的離子轟擊固體表面，離子和固體表面原子交換動(dòng)量，使固體表面的原子離開(kāi)固體并沉積在基底表面形成所需要的薄膜，程稱(chēng)為濺射。被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的源材料，通常稱(chēng)為靶材。靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱(chēng)濺射靶材。由于半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)與晶圓產(chǎn)量存在直接關(guān)系，以中國(guó)大陸晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能占全球比例為15%計(jì)算，2019年中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)約1.7億美元。隨著晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能向中國(guó)轉(zhuǎn)移，半導(dǎo)體用靶材市場(chǎng)將達(dá)到1.5億美元。同比增長(zhǎng)25%。AZO靶材，用于薄膜太陽(yáng)能電池、Low-e鍍膜玻璃、汽車(chē)鍍膜玻璃、平面顯示器等。制造工藝：冷等靜壓+高溫?zé)Y(jié)+邦定。純度≥99.95%。比例：99:1、98:2（wt%）形狀：旋轉(zhuǎn)AZO靶材、平面AZO靶材