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氧化鋅鋁靶材 旋轉(zhuǎn)氧化鋅鋁靶 AZO旋轉(zhuǎn)靶材 陶瓷靶材

2780.00 / 噸
主營(yíng)
磁控濺射靶材,陶瓷靶材,金屬靶材,ITO靶材
發(fā)貨期限
1天內(nèi)發(fā)貨
供貨總量
695

成立時(shí)間:

注冊(cè)資本:

經(jīng)營(yíng)范圍: 氧化鋅、 鋅合金、 陶瓷、 鋁靶材、 AZO、

基本信息

目前國(guó)內(nèi)外都在推廣應(yīng)用旋轉(zhuǎn)空心圓管磁控濺射靶,其優(yōu)點(diǎn)是靶材可繞固定的條狀磁鐵組件旋轉(zhuǎn),因而360°靶面可被均勻刻蝕,利用***達(dá)80%。靶材的性能要求靶材制約著濺鍍薄膜的物理、力學(xué)性能,影響鍍膜質(zhì)量,因而靶材質(zhì)量評(píng)價(jià)較為嚴(yán)格,主要應(yīng)滿(mǎn)足如下要求;1)雜質(zhì)含量低,純度高。靶材的純度影響薄膜的均勻性。2)高致密度。高致密度靶材具有導(dǎo)電、導(dǎo)熱性好、強(qiáng)度高等優(yōu)點(diǎn),使用這種靶材鍍膜,濺射功率小,成膜速***,薄膜不易開(kāi)裂,靶材使用壽命長(zhǎng),而且濺鍍薄膜的電阻率低,透光***。3)成分與組織結(jié)構(gòu)均勻。靶材成分均勻是鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定的重要***。在軸間等距離的環(huán)形表面上形成刻蝕區(qū),其缺點(diǎn)是薄膜沉積厚度均勻性不易控制,靶材的利用率較低,僅為20%~30%。