鈦硅合金靶材Ti-20Si 濺射靶材 成分均勻 支持定制

                                                          聲明由于原材料價格波動較大，且產(chǎn)品價格與產(chǎn)品尺寸、純度等因素密切相關，請廣大用戶下單前務必咨詢客服，否則概不發(fā)貨！謝謝您的理解與支持！鈦硅靶材名稱：鈦硅（TiSi）靶材Titanium Silicon Alloy Sputtering Target成分：TiSi5 at%,TiSi 10at%,TiSi15 at%,TiSi20 at%,TiSi25 at%,TiSi75 at%.純度：99.5%，99.8%，99.9%,99.95%, 99.***形狀：平面靶，柱狀靶，電弧靶，異型靶等等。 鈦硅（TiSi）靶材在反應沉積過程中與氮氣反應，能理想的形成超硬的氮化物涂層。涂層中的硅元素***了其高抗氧化性，硬度則由鈦元素來***，即便在極高的溫度下，氮化鈦硅涂層也有很優(yōu)異的耐磨性。涂有氮化鈦硅涂層的刀具不僅有優(yōu)異的耐磨性，還可以進行干式切削，可加工的材料包括鎳基合金和鈦合金等超級合金。 北京瑞弛憑其多年在工模具領域制作靶材應用的經(jīng)驗，采用真空電弧熔煉的Ti-15Si at%靶材，以其成分均勻、氣體含量低、純度高等優(yōu)點，深受客戶的歡迎；同時，公司開發(fā)了Ti-15Si at%、Ti-20Si at%和Ti-25Si at%等成分的靶材，使用公司采用高純原料生產(chǎn)的特種粉末，通過精細磨粉和混粉，采用熱等靜壓的方法，制備出的成分均勻、純度高、密度高、力學性能優(yōu)良的TiSi靶材。我公司生產(chǎn)的TiSi靶，力學性能優(yōu)良，可以很好的防止靶材斷裂，并且由于粉末的充分熔合，在使用過程中，可以大大減少熔滴的產(chǎn)生，沉積的涂層表面光潔度更高，廣泛應用于工模具涂層領域。 我們生產(chǎn)的不同成分的TiSi靶材及性能